某光电器件生产制造商家因晶圆清理加工过程行成含氨废渣，发电量200吨/天。废渣中除挥发酚外还带有氟化物和氢化物发生器血本属，清理困难程度大。本市直接排放规范请求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 化工废水组成及种类 晶圆拆洗污水（具体主要来源）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀生产工序污废水 ：含进样器铜、镍等血本属，pH值起伏大 CMP抛光污废水 ：含硅科粒及挥发酚 解决工序工作流程 主要采用"物理化学滤渣+膜剥离 +折点氯化"三人组合工艺流程： 预治理 ：加药系统CaCl2除氟，保持pH在7.5-8. 反渗透装置系统软件 ：彻底清除0.01μm上面的科粒物 反融于浓缩液 ：将挥发酚高浓至1000mg/L不低于 折点氯化 ：精准管理氯污泥脱水量，将氧化还原电位导出为氦气 亚铁离子对换 ：维护巨资属合格 进而作用 氯离子稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属纯度如果低于判断限 水工业废水处理率达75% 生活污水产生了量缩短40%